9月18 日 – AIXTRON發(fā)布信息稱(chēng)，公司將支持全球最大的硅外延晶圓代工廠(chǎng)之一 GlobiTech Inc.將其業(yè)務(wù)擴展到碳化硅 (SiC) 外延領(lǐng)域。AIXTRON 的新型設備 G10將加速GlobiTech提高 SiC 外延產(chǎn)量，以滿(mǎn)足全球對功率外延晶圓日益增長(cháng)的需求。

該新聞也快速在業(yè)內引起市場(chǎng)關(guān)注，那么隨著(zhù)GlobiTech攜手AIXTRON進(jìn)軍碳化硅外延市場(chǎng)，我們可以看到行業(yè)正在發(fā)生變化：

碳化硅行業(yè)長(cháng)期趨勢的明確信號

增產(chǎn)、降本將是市場(chǎng)主流

一直以來(lái)，國內碳化硅市場(chǎng)的外延設備以穩定性高，操作簡(jiǎn)單的單片爐為主，代表性機型為意大利LPE公司的Pe106/108，該機臺可以實(shí)現 900℃高溫自動(dòng)裝取片，主要特點(diǎn)是生長(cháng)率高、外延周期短 、片內及爐次間一致性好等 ，在國內市場(chǎng)占有率最高。

國內市場(chǎng)上，晶盛機電、中國電科48所、北方華創(chuàng )、納設智能等公司均開(kāi)發(fā)了具有類(lèi)似功能的單片式SiC外延設備，并推進(jìn)大規模應用，以上4家公司的水平外延爐均已實(shí)現大規模出貨。

根據InSemi不完全調研，綜合各家的市場(chǎng)信息，憑借穩定且可靠的工藝性能，國內單片爐市場(chǎng)存量已累計超過(guò)450臺，除此之外各家仍有較多數量的待交付訂單?？梢哉f(shuō)單片機臺仍是目前的市場(chǎng)主流。

但隨著(zhù)下游應用的逐步起量，國內外碳化硅產(chǎn)能擴產(chǎn)節奏加快，碳化硅外延的擴產(chǎn)需求進(jìn)一步加大，僅國內市場(chǎng)外延項目已超15個(gè)。

隨著(zhù)擴產(chǎn)需求的放大，單片機的產(chǎn)出能力弊端逐步顯現。據LPE透露的單片機月產(chǎn)能僅350片/月。所以市場(chǎng)也在不停探索其他更多提升產(chǎn)能的技術(shù)路線(xiàn)。

G10應運而生，這套2022年9月AIXTRON愛(ài)思強推出全新的外延系統。據了解，這套高溫CVD系統是用于SiC市場(chǎng)的150/200毫米高通量外延設備（雙晶圓尺寸批處理反應器）。

G10-SiC新平臺

? 支持雙晶圓尺寸：150 mm 和 200 mm

? 市場(chǎng)上最高的晶圓產(chǎn)量/平方米

? 市場(chǎng)上最低的成本/晶圓

? 優(yōu)異的Run-to-Run工藝性能

? 高度均勻、低缺陷的 SiC 外延工藝，可實(shí)現最大芯片良率

? 高效的 SiC 襯底基面位錯 (BPD) 轉換

新的平臺是圍繞著(zhù)AIXTRON愛(ài)思強經(jīng)過(guò)驗證的自動(dòng)化晶圓盒到盒的裝載解決方案和高溫晶圓轉移而建立的。結合高增長(cháng)率的工藝能力，G10-SiC提供了一流的晶圓吞吐量和每平方米的吞吐量，以有效利用半導體工廠(chǎng)有限的潔凈室空間。

簡(jiǎn)單說(shuō)就是G10是為了碳化硅外延片大規模量產(chǎn)而生的。

當然，除G10外，今年以來(lái)準熱壁立式 CVD 系統的進(jìn)展也備受市場(chǎng)關(guān)注，據國內準熱壁立式 CVD 系統的量產(chǎn)廠(chǎng)家芯三代稱(chēng)：公司將工藝和設備緊密結合研發(fā)的SiC-CVD設備通過(guò)溫場(chǎng)控制、流場(chǎng)控制等方面的設計，在高產(chǎn)能、6/8英寸兼容、COO成本、長(cháng)時(shí)間多爐數連續自動(dòng)生長(cháng)控制、低缺陷率、維護便利性和可靠性等方面都具有明顯的優(yōu)勢。